透明導(dǎo)電薄膜的制造方法、以及使用而成的電子裝置方法及圖紙

本發(fā)明磚利技術(shù)提供一種具有優(yōu)異濕熱特性的透明導(dǎo)電薄膜、透明導(dǎo)電薄膜的制造方法以及使用這樣的透明導(dǎo)電薄膜而成的電子裝置。其特征在于，是在樹脂基材的至少一面上具備氣體阻隔層以及通過濺射法而形成的氧化鋅膜的透明導(dǎo)電薄膜等，氧化鋅膜是包含氧化鋅，同時(shí)摻雜鎵及銦而成的氧化鋅膜，并且，相對于通過XPS的元素分析測定的鋅量、鎵量、氧量及銦量的總量(100atom％)，將銦量定為0.01～25atom％范圍內(nèi)的值，并將鎵量定為0.1～10atom％范圍內(nèi)的值，在將初始比電阻設(shè)為ρ0，將在60℃、相對濕度95％的條件下保管500小時(shí)后的比電阻設(shè)為ρ500時(shí)，將ρ500/ρ0所表示的比率定為1.5以下的值，進(jìn)一步地，將氧化鋅膜的膜厚定為20～300nm范圍內(nèi)的值。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華磚利技術(shù)】
本磚利技術(shù)涉及透明導(dǎo)電薄膜、透明導(dǎo)電薄膜的制造方法、以及使用透明導(dǎo)電薄膜而成的電子裝置，尤其涉及具有優(yōu)異氣體阻隔性及濕熱特性的透明導(dǎo)電薄膜、這樣的透明導(dǎo)電薄膜的制造方法、以及使用這樣的透明導(dǎo)電薄膜而成的電子裝置。
技術(shù)介紹
以往，在具備液晶裝置、有機(jī)電致發(fā)光裝置(有機(jī)EL元件)的畫像顯示設(shè)備中，將錫摻雜氧化銦作為透明導(dǎo)電層的形成材料而使用的透明導(dǎo)電薄膜被廣泛使用。另一方面，作為使用大量包含高價(jià)稀有金屬銦的錫摻雜氧化銦的透明導(dǎo)電層的替代，已提案有使用透明性、表面平滑性優(yōu)異的氧化鋅的透明導(dǎo)電薄膜。更具體而言，提案有在有機(jī)高分子薄膜基材上形成Al2O3薄膜，并在其上形成摻雜Ga的ZnO即GZO薄膜的透明導(dǎo)電薄膜(例如參照磚利文獻(xiàn)1)。另外，提案有將氧化鋅作為主成分，通過濃度易調(diào)控的摻雜劑，將電阻率的降低作為目的的低電阻率透明導(dǎo)電體。即，提案有由氧化鋅、氧化銦及氧化鎵所構(gòu)成的透明導(dǎo)電體，其為將銦及鎵的元素濃度分別定為規(guī)定范圍內(nèi)的值的低電阻率透明導(dǎo)電體(例如磚利文獻(xiàn)2)。另一方面，提案有以即使為極薄膜水平也可得到優(yōu)異耐濕熱特性作為目的，摻雜特定元素的透明導(dǎo)電性氧化鋅膜。即，提案有一種透明導(dǎo)電性氧化鋅膜，其對氧化鋅，添加由Ga和/或Al所構(gòu)成的**元素、以及由選自由In、Bi、Se、Ce、Cu、Er及Eu所構(gòu)成的群中的至少一個(gè)所構(gòu)成的**元素，其在規(guī)定的濕熱試驗(yàn)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種透明導(dǎo)電薄膜，其特征在于，是在樹脂基材的至少一面上具備氣體阻隔層及通過濺射法而形成的氧化鋅膜的透明導(dǎo)電薄膜，氧化鋅膜是包含氧化鋅，同時(shí)摻雜鎵及銦而成的氧化鋅膜，并且，相對于通過XPS的元素分析測定的鋅量、鎵量、氧量及銦量的總量(100atom％)，將銦量定為0.01～25atom％范圍內(nèi)的值，將鎵量定為0.1～10atom％范圍內(nèi)的值，在將初始比電阻設(shè)為ρ0，將在60℃、相對濕度95％的條件下保管500小時(shí)后的比電阻設(shè)為ρ500時(shí)，將ρ500/ρ0所表示的比率定為1.5以下的值，進(jìn)一步地，將氧化鋅膜的膜厚定為20～300nm范圍內(nèi)的值。

【技術(shù)特征摘要】
【國外來華磚利技術(shù)】2014.02.07 JP 2014-0219821.一種透明導(dǎo)電薄膜，其特征在于，是在樹脂基材的至少一面
上具備氣體阻隔層及通過濺射法而形成的氧化鋅膜的透明導(dǎo)電薄膜，
氧化鋅膜是包含氧化鋅，同時(shí)摻雜鎵及銦而成的氧化鋅膜，
并且，相對于通過XPS的元素分析測定的鋅量、鎵量、氧量及
銦量的總量(100atom％)，將銦量定為0.01～25atom％范圍內(nèi)的值，
將鎵量定為0.1～10atom％范圍內(nèi)的值，在將初始比電阻設(shè)為ρ0，將在
60℃、相對濕度95％的條件下保管500小時(shí)后的比電阻設(shè)為ρ500時(shí)，
將ρ500/ρ0所表示的比率定為1.5以下的值，
進(jìn)一步地，將氧化鋅膜的膜厚定為20～300nm范圍內(nèi)的值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電薄膜，其特征在于，在將在
所述氧化鋅膜的初始比電阻設(shè)為ρ0，將在60℃、相對濕度95％的條
件下保管1000小時(shí)后的比電阻定設(shè)為ρ1000時(shí)，將ρ1000/ρ0所表示的比
率定為2.0以下的值。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的透明導(dǎo)電薄膜，其特征在于，所
述樹脂基材是選自由聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、
聚碳酸酯、環(huán)烯烴類共聚物、環(huán)烯烴類聚合物、聚醚砜、及聚酰亞胺
所構(gòu)成的群中的至少一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電薄膜，其特
征在于，所述氣體阻隔層是選自由金屬、無機(jī)氧化物、無機(jī)氮化物、
無機(jī)氧氮化物、無機(jī)碳化物、無機(jī)硫化物、無機(jī)氧氮化碳化物...

【磚利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：原務(wù)，永繩智史，永元公市，

上海卷柔新技術(shù)光電有限公司是一家專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)光學(xué)儀器及其零配件?的高科技企業(yè)，公司成立２００５年，專業(yè)的光電鍍膜公司，公司產(chǎn)品主要涉及光學(xué)儀器及其零配件的研發(fā)和加工；光學(xué)透鏡、反射鏡、棱鏡等光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的開發(fā)和生產(chǎn)，為全球客戶提供上等的產(chǎn)品和服務(wù)。

采用德國薄膜制備工藝，形成了一套具有嚴(yán)格工藝標(biāo)準(zhǔn)的閉環(huán)式流程技術(shù)制備體系，能夠制備各種超高性能光學(xué)薄膜，包括紅外薄膜、增透膜，ARcoating, 激光薄膜、特種薄膜、紫外薄膜、x射線薄膜，應(yīng)用領(lǐng)域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、醫(yī)用激光器、紅外制導(dǎo)、面部識別、VR/AR應(yīng)用,博物館，低反射櫥窗玻璃，畫框等。